电弧离子镀低温沉积TiN薄膜的显微结构与残余应力

• 作者: 梁海峰 梅海娟 王启民 赵升升 陈伟
• 来源期刊: 中国有色金属学报（英文版）
• 关键词: TiN薄膜 电弧离子镀 残余应力 低温 偏压
• 年，卷（期）: 2018,（7）
• 所属期刊栏目: 功能材料
• 页码范围: 1368-1376
• 页数: 9页
• 字数: 907字
• 语种: 英文
• DOI: 10.1016/S1003-6326(18)64775-2

摘要

采用电弧离子镀技术在316L不锈钢基体上低温沉积TiN薄膜,并利用EDS、SEM、XRD和纳米压痕仪研究基体偏压和温度对薄膜的显微结构、残余应力和力学性能的影响规律.结果表明,TiN薄膜表现出高度(111)择优取向的面心立方结构.随着基体偏压和温度的增加,衍射峰强度急剧增加,同时峰变窄,晶粒尺寸从6.2 nm增大到13.8 nm.当基体温度从10℃ 增加到300℃ 时,薄膜的残余压应力从10.2 GPa急剧下降到7.7 GPa,从而导致薄膜的硬度从33.1 GPa下降到30.6 GPa,而薄膜的结合力则从9.6 N增加到21 N.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	梁海峰	华东交通大学理工学院	13	27	3.0	4.0
2	陈伟	深圳职业技术学院机电工程学院	30	87	5.0	7.0
3	赵升升	深圳职业技术学院机电工程学院	15	22	3.0	4.0
4	王启民	广东工业大学机电工程学院	25	153	6.0	11.0
5	梅海娟	深圳职业技术学院机电工程学院	2	4	1.0	2.0