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摘要:
基于一款0.18 μm工艺下常规设计带隙基准源,使用单粒子瞬态脉冲电流模型分析了常见CMOS两级放大器的单粒子敏感性.对于带隙基准源中使用的垂直型PNP管使用TCAD软件建立了三维模型,并通过仿真验证了其应用在带隙基准源中的单粒子敏感性.最后,针对带隙基准源单粒子敏感特性,提出了整体加固建议.
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文献信息
篇名 带隙基准源单粒子敏感性分析
来源期刊 电子技术应用 学科 工学
关键词 单粒子瞬态 带隙基准源 垂直型PNP管
年,卷(期) 2018,(12) 所属期刊栏目 微电子技术
研究方向 页码范围 5-8
页数 4页 分类号 TN406
字数 1228字 语种 中文
DOI 10.16157/j.issn.0258-7998.183103
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 赵元富 28 104 6.0 8.0
2 王亮 9 31 3.0 5.0
3 刘家齐 4 5 2.0 2.0
4 李同德 3 3 1.0 1.0
5 隋成龙 1 0 0.0 0.0
6 韩旭鹏 1 0 0.0 0.0
7 曹炜亦 1 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
单粒子瞬态
带隙基准源
垂直型PNP管
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子技术应用
月刊
0258-7998
11-2305/TN
大16开
北京海淀区清华东路25号
2-889
1975
chi
出版文献量(篇)
11134
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28
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66888
论文1v1指导