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刀口半影最小化的光刻机扫描狭缝研究
刀口半影最小化的光刻机扫描狭缝研究
作者:
张方
林栋梁
黄惠杰
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
光学光刻
步进扫描
扫描狭缝
同步
刀口半影
摘要:
扫描狭缝是步进扫描光刻机中控制曝光剂量的重要单元,而扫描狭缝产生过大的刀口半影会影响曝光性能.首先,根据步进扫描光刻机照明原理,通过分析掩模面上光强分布与扫描狭缝刀口厚度及位置的相对关系,推导出掩模面上刀口半影宽度的计算公式,同时针对数值孔径NA为0.75的光刻机照明系统模型分别对非共面和共面扫描狭缝在掩模面上的刀口半影进行仿真分析;研制了一种四刀口共面的高精度扫描狭缝装置,不仅满足步进扫描光刻机的同步性能需求,并且有效减小了X向和Y向的刀口半影;最后对所研制的扫描狭缝动态性能以及掩模面上实际刀口半影进行了测试.结果表明,当最大扫描速度达到470mm/s时,扫描刀口动态跟随误差始终在±30μm以内,同时两个方向的刀口半影均不超过0.5mm,满足90nm分辨率步进扫描光刻机的需求.
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文献信息
篇名
刀口半影最小化的光刻机扫描狭缝研究
来源期刊
光学精密工程
学科
工学
关键词
光学光刻
步进扫描
扫描狭缝
同步
刀口半影
年,卷(期)
2018,(5)
所属期刊栏目
现代应用光学
研究方向
页码范围
1046-1053
页数
8页
分类号
TN23|TN305.7
字数
3501字
语种
中文
DOI
10.3788/OPE.20182605.1046
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
黄惠杰
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术试验室
69
544
13.0
23.0
5
张方
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术试验室
17
138
5.0
11.0
6
林栋梁
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术试验室
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引证文献(0)
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2019(2)
引证文献(2)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
光学光刻
步进扫描
扫描狭缝
同步
刀口半影
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学精密工程
主办单位:
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中国仪器仪表学会
出版周期:
月刊
ISSN:
1004-924X
CN:
22-1198/TH
开本:
大16开
出版地:
长春市东南湖大路3888号
邮发代号:
12-166
创刊时间:
1959
语种:
chi
出版文献量(篇)
6867
总下载数(次)
10
总被引数(次)
98767
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