沉积工艺对YbF3薄膜可靠性的影响

• 作者: 于天燕 冯毅东 刘定权
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 氟化镱 可靠性 离子束辅助沉积 应力 附着力
• 年，卷（期）: 2018,（7）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 377-382
• 页数: 6页
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS201838.0731002

摘要

从沉积方式、薄膜厚度、沉积温度和离子束能量四个方面,研究了沉积工艺对氟化镱(YbF3)薄膜可靠性的影响.研究结果表明,相较于电阻加热蒸发方式,用电子束加热蒸发得到的YbF3薄膜,其致密性更好,水汽吸收更少;薄膜太厚或沉积温度太高会加大YbF3薄膜的应力,使薄膜表面出现裂痕,甚至使薄膜脱落;离子束辅助沉积可以增加YbF3薄膜的附着力,改善薄膜的表面质量;随着离子束能量的增加,薄膜的应力先增大后减小.根据以上研究结果得出YbF3薄膜的最佳沉积工艺,并研制出具有良好光谱性能和高可靠性的宽光谱增透膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘定权	中国科学院上海技术物理研究所	49	176	8.0	12.0
2	于天燕	中国科学院上海技术物理研究所	11	64	4.0	8.0
3	冯毅东	中国科学院上海技术物理研究所	2	0	0.0	0.0