YbF3沉积速率对红外激光薄膜表面缺陷的影响

• 作者: 凌宁 张云洞 张耀平 许鸿
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 激光薄膜 沉积速率 缺陷密度 损伤阈值
• 年，卷（期）: 2005,（7）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 1019-1022
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2156字
• 语种: 中文

摘要

在介绍了薄膜缺陷的特点及成因的基础上,分析了YbF3沉积速率对红外激光薄膜表面缺陷密度的影响,得出了镀制激光薄膜所需的合适速率.结果表明:薄膜表面缺陷主要以节瘤缺陷与陷穴缺陷为主,其缺陷密度随YbF3沉积速率的减小基本表现为减小的趋势,当ZnS沉积速率约为0.2 nm/s,YbF3沉积速率约为0.4 nm/s时,可得到比较满意的激光薄膜,薄膜表面缺陷密度仅为0.000 675.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许鸿	中国科学院光电技术研究所	9	75	6.0	8.0
2	凌宁	中国科学院光电技术研究所	64	929	17.0	27.0
3	张云洞	中国科学院光电技术研究所	45	372	10.0	16.0