耐等离子刻蚀陶瓷的研究现状

• 作者: 伍尚华 向其军 朱佐祥 朱祖云 田卓 谭毅成
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子 耐刻蚀性 陶瓷 刻蚀
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 页码范围: 1272-1279
• 页数: 8页
• 分类号: TB332
• 字数: 6701字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2018.06.032

摘要

等离子刻蚀技术是超大规模集成电路制备工艺中不可或缺加工技术.在半导体晶圆尺寸不断增大以及特征尺寸不断缩少的发展进程中,晶圆的污染问题越来越突出.而刻蚀机腔室材料作为晶圆的主要污染源之一,其耐等离子刻蚀性日益受到人们的关注.本文主要介绍耐等离子体刻蚀腔体材料的特性及目前国内外的研究与发展现状.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	伍尚华	广东工业大学机电工程学院	54	279	10.0	15.0
2	谭毅成	广东工业大学机电工程学院	2	0	0.0	0.0
6	朱佐祥		1	0	0.0	0.0
7	向其军		1	0	0.0	0.0
8	朱祖云	广东工业大学机电工程学院	1	0	0.0	0.0
9	田卓	广东工业大学机电工程学院	1	0	0.0	0.0