铜铟硒膜及其离子注入后的光电特性研究

• 作者: 何伟坚 王世兴 王伟 苏红 黄建军
• 来源期刊: 光学与光电技术
• 学科: 工学
• 关键词: 铜铟硒膜 离子注入 光电性能 拉曼光谱 禁带宽度
• 年，卷（期）: 2019,（3）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 66-70
• 页数: 5页
• 分类号: TM914.4
• 语种: 中文

摘要

为了实现对铜铟硒膜光电性能的调制处理,在制备不同厚度铜铟硒膜的基础上,通过引入离子注入设计了不同的膜层结构.测试结果表明,随着退火温度、溅射功率的改变,薄、厚二种铜铟硒膜层的禁带宽度、电阻率、拉曼光谱均发生变化,且表现有所区别.对铜铟硒膜进行离子注入后发现,黄铜矿结构对应的拉曼峰减弱甚至消失,表面晶格损伤较大;单注入铝离子使得电阻率及禁带宽度均增大,而单注入钛离子增大了禁带宽度但降低了电阻率,双注入铝离子与钛离子则可以在较大范围内对电阻率、禁带宽度进行调制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄建军	深圳大学物理与能源学院	65	679	16.0	24.0
2	苏红	深圳大学光电工程学院	13	35	3.0	5.0
3	王伟	深圳大学物理与能源学院	6	2	1.0	1.0
4	王世兴	深圳大学物理与能源学院	4	0	0.0	0.0
5	何伟坚	深圳大学物理与能源学院	2	0	0.0	0.0