Ge基底LaF3-ZnS-Ge高耐用中波红外增透膜

• 作者: 于晓辉 彭浪 普群雁 李茂忠 杨伟声 王岭雪 白玉琢 程海娟 蔡毅 赵劲松
• 来源期刊: 红外与激光工程
• 学科: 物理学
• 关键词: LaF3 高耐用性 增透膜 中波红外
• 年，卷（期）: 2019,（11）
• 所属期刊栏目: 材料与薄膜
• 页码范围: 251-257
• 页数: 7页
• 分类号: O439
• 字数: 3904字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/IRLA201948.1117001

摘要

研究了LaF3材料的蒸发特性及其在2.5～12 μm红外波段的光学常数,并将LaF3晶体作为低折射率材料在Ge基底上制备了中波红外3.7～4.8 μm波段高耐用性增透膜.SEM照片显示,基于LaF3材料的高耐用性增透膜表面纳米晶粒分布均匀致密,表面光洁度高.利用傅里叶变换红外光谱仪测试了其光谱特性,在3.7～4.8 μm波段,峰值透射率达到99.4％,双面镀膜平均透射率由47.7％提高到98.8％.牢固度、耐久性等环境试验结果显示,膜层在保持高的光学性能的同时还可以在较为严苛的恶劣环境中使用.