抛光过程中光学元件表面划痕的形成和控制

• 作者: 尹进 朱健强 梁尚娟 樊全堂 汤文龙 焦翔
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 光学制造 抛光 石英玻璃 划痕 模型 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2019,（12）
• 所属期刊栏目: 激光制造
• 页码范围: 117-124
• 页数: 8页
• 分类号: TG356.28
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201946.1202009

摘要

通过在石英玻璃的抛光过程中引入α-Al2O3颗粒,对抛光过程中石英工件表面产生的划痕类型和收尾阶段不同粒径杂质颗粒产生的划痕长度进行分析,同时研究了抛光液质量分数和抛光盘结构对石英玻璃抛光质量的影响.结果 表明:杂质颗粒需要盘面提供足够大的支撑力才能在工件表面产生划痕,而杂质颗粒所受盘面的支撑力大小取决于其位置高度和共同参与受力的基质颗粒数量;杂质颗粒的位置高度很难掌控,但在相同工艺条件下,使用质量分数为6％的抛光粉和具有多微孔结构的沥青抛光盘可以有效降低划痕的产生概率,并且不会导致抛光表面粗糙度变差或过度影响抛光效率,对实际加工生产有指导意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱健强	中国科学院上海光学精密机械研究所	147	1132	17.0	31.0
2	焦翔	中国科学院上海光学精密机械研究所	12	1	1.0	1.0
3	梁尚娟	中国科学院上海光学精密机械研究所	2	0	0.0	0.0
4	汤文龙	中国科学院上海光学精密机械研究所	2	0	0.0	0.0
5	樊全堂	中国科学院上海光学精密机械研究所	5	13	1.0	3.0
6	尹进	中国科学院上海光学精密机械研究所	3	7	1.0	2.0