多杆机构复合摆动轨迹抛光方法对光学元件中频误差的抑制

• 作者: 刘志刚 朱健强 焦翔 赖璐文
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 光学制造 小工具抛光 复合摆动轨迹 中频误差 多杆机构 去除函数
• 年，卷（期）: 2019,（11）
• 所属期刊栏目: 激光制造
• 页码范围: 82-88
• 页数: 7页
• 分类号: TG356.28
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201946.1102001

摘要

针对高功率激光系统中传统小工具抛光方式带来的较大中频误差影响高功率激光系统稳定性和可靠性的问题,提出了基于简谐运动的复合摆动轨迹抛光方法,并建立了数控多杆机构复合摆动轨迹抛光系统;根据小工具抛光基本原理可知,规则、有序的平转运动轨迹是引入中频误差的重要原因之一.为了提高生成去除函数轨迹的复杂性,提出了基于复合摆动轨迹的去除函数模型,研究了复合摆动轨迹抛光的基本过程和离散化计算方法;选择合适的工艺参数和去除函数轨迹,进行了基于复合摆动轨迹的去除函数与基于传统平转运动的去除函数的对比加工实验.结果 表明:通过干涉仪测量可知,复合摆动轨迹加工方法得到的面形干涉条纹比平转运动的更光顺,且无毛刺;在50 mm×50 mm范围内,复合摆动轨迹加工面形的功率谱密度曲线低于平转运动的功率谱密度曲线,整体加工效果优于传统平转运动;基于复合摆动轨迹的数控多杆抛光系统相对于传统平转工艺能有效抑制中频误差.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘志刚	中国科学院上海光学精密机械研究所	89	660	13.0	21.0
2	朱健强	中国科学院上海光学精密机械研究所	147	1132	17.0	31.0
3	焦翔	中国科学院上海光学精密机械研究所	12	1	1.0	1.0
4	赖璐文	中国科学院上海光学精密机械研究所	1	0	0.0	0.0