各向异性湿法刻蚀中刻蚀温度对硅尖形貌的影响

• 作者: 宿世界 张小辉 梁军生 王大志 胡亚明
• 来源期刊: 机电工程技术
• 学科: 工学
• 关键词: 单晶硅 针尖 各向异性刻蚀
• 年，卷（期）: 2019,（9）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 35-37
• 页数: 3页
• 分类号: TN305
• 字数: 1392字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-9492.2019.09.012

摘要

纳米硅尖在原子力学显微镜、微机械电子、光学研究、纳米级图形加工上具有广泛的用途.然而,如何制备小曲率半径高纵横比的硅尖仍为有待解决的问题和挑战.根据各项异性湿法刻蚀硅尖原理,设计了硅尖的加工工艺流程,并制备出不同纵横比的纳米硅尖.通过观察掩模对角线刻蚀进程,得到了掩模对角线刻蚀速率与刻蚀温度的关系;对比了不同刻蚀温度对刻蚀硅尖的影响,发现采用40wt％KOH刻蚀液,水浴78℃的刻蚀条件满足自锐化且刻蚀出纳米硅尖曲率半径小而纵横比大,其曲率半径为26 nm,纵横比为1.9.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王大志	大连理工大学精密与特种加工技术教育部重点实验室	29	41	3.0	5.0
2	梁军生	大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室	23	53	4.0	6.0
6	胡亚明	大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室	3	0	0.0	0.0
7	张小辉	大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室	2	0	0.0	0.0
8	宿世界	大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室	3	3	1.0	1.0