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基于N-PERT电池产业化离子注入掺杂工艺稳定性研究
基于N-PERT电池产业化离子注入掺杂工艺稳定性研究
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摘要：
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Mo 离子注入对纯铜表面纳米层稳定性的影响
表面机械研磨处理
离子注入
表面纳米层
微观结构
硬度
N+离子注入诱变选育耐酸性α-淀粉酶高产菌株
枯草芽孢杆菌
耐酸性中温α-淀粉酶
离子注入
掺杂离子及掺杂工艺对钛酸钡性能的影响
掺杂离子
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钛酸钡
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锗(Ge)材料中砷(As)离子注入掺杂和退火激活的实验研究
n型锗材料
砷离子注入
快速热退火
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主办单位：
中国电子学会
出版周期：
半月刊
ISSN：
1003-0522
CN：
11-2086/TN
开本：
大16开
出版地：
北京市
邮发代号：
2-892
创刊时间：
1979
语种：
chi
出版文献量（篇）
36164
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