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高温制备非晶五氧化二钒薄膜的光学减反特性
高温制备非晶五氧化二钒薄膜的光学减反特性
作者:
王海
王秋仅
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
超高真空
高温
非晶V2O5薄膜
反射率
摘要:
采用超高真空磁控溅射在Al2 O3/Si基底上制备非晶五氧化二钒(V2 O5)薄膜,并研究了高温退火对其晶体结构、表面形貌和光学特性的影响.扫描电子显微镜观察表明样品表面平滑致密具有连续性.在可见光波范围内,制备态薄膜在波长497 nm处出现反射率的最小值(约18%).经15 min高温退火处理后,样品X射线衍射光谱中除基底衍射峰外无其他衍射峰出现,表明样品依旧为非晶态.高温退火后的样品反射率最小值可进一步降低至约6%.上述结果对于以V2 O5薄膜为基础的高温光学器件制备和应用有一定借鉴价值.
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文献信息
篇名
高温制备非晶五氧化二钒薄膜的光学减反特性
来源期刊
首都师范大学学报(自然科学版)
学科
物理学
关键词
超高真空
高温
非晶V2O5薄膜
反射率
年,卷(期)
2020,(1)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
14-18
页数
5页
分类号
O469
字数
1698字
语种
中文
DOI
10.19789/j.1004-9398.2020.01.004
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
王海
首都师范大学物理系
19
37
3.0
6.0
2
王秋仅
首都师范大学物理系
1
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非晶V2O5薄膜
反射率
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
首都师范大学学报(自然科学版)
主办单位:
首都师范大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1004-9398
CN:
11-3189/N
开本:
16开
出版地:
北京西三环北路105号
邮发代号:
2-293
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
2309
总下载数(次)
13
总被引数(次)
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