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摘要:
采用超高真空磁控溅射在Al2 O3/Si基底上制备非晶五氧化二钒(V2 O5)薄膜,并研究了高温退火对其晶体结构、表面形貌和光学特性的影响.扫描电子显微镜观察表明样品表面平滑致密具有连续性.在可见光波范围内,制备态薄膜在波长497 nm处出现反射率的最小值(约18%).经15 min高温退火处理后,样品X射线衍射光谱中除基底衍射峰外无其他衍射峰出现,表明样品依旧为非晶态.高温退火后的样品反射率最小值可进一步降低至约6%.上述结果对于以V2 O5薄膜为基础的高温光学器件制备和应用有一定借鉴价值.
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关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 高温制备非晶五氧化二钒薄膜的光学减反特性
来源期刊 首都师范大学学报(自然科学版) 学科 物理学
关键词 超高真空 高温 非晶V2O5薄膜 反射率
年,卷(期) 2020,(1) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 14-18
页数 5页 分类号 O469
字数 1698字 语种 中文
DOI 10.19789/j.1004-9398.2020.01.004
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王海 首都师范大学物理系 19 37 3.0 6.0
2 王秋仅 首都师范大学物理系 1 0 0.0 0.0
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期刊影响力
首都师范大学学报(自然科学版)
双月刊
1004-9398
11-3189/N
16开
北京西三环北路105号
2-293
1976
chi
出版文献量(篇)
2309
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