暗场显微成像系统的光源研究

• 作者: 秦文罡 韦瑶 高爱华
• 来源期刊: 光学与光电技术
• 学科: 工学
• 关键词: 激光光源 高反射镜 划痕形疵病 检测盲区 显微成像
• 年，卷（期）: 2020,（5）
• 所属期刊栏目: 光学设计
• 页码范围: 75-79
• 页数: 5页
• 分类号: TN247
• 语种: 中文

摘要

以正方形激光陀螺所用高反射镜疵病检测为例,分析了使用激光光源照明时,微米量级划痕形疵病存在检测盲区的现象.实际使用中激光以45°角入射到高反射镜上,疵病检测与陀螺使用时光源入射角相同,疵病形成的散射光通过显微成像光路成像在CCD上,结合实验数据探讨了宽度为微米量级划痕形疵病的成像情况.提出了一种新颖的激光照明方式,通过将光源设计成180°范围内无死角的全光幕照明方式克服了单一激光光源照明的检测盲区,无需旋转样品多次采集图像,避免了运动控制产生的测量误差,从而也简化了图像处理步骤,提高了检测效率和精度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高爱华		51	247	8.0	12.0
2	秦文罡		19	75	6.0	8.0
3	韦瑶		2	0	0.0	0.0