负偏压和本底真空度对Al膜表面形貌和耐蚀性能的影响

• 作者: 胡方勤 曹振亚 张青科 杨丽景 宋振纶
• 来源期刊: 中国表面工程
• 关键词: Al薄膜 电弧离子镀 负偏压 本底真空度 耐蚀性
• 年，卷（期）: 2020,（4）
• 所属期刊栏目: 表面工程研究|Surface Engineering Research
• 页码范围: 128-135
• 页数: 8页
• 分类号: TG178
• 语种: 中文
• DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20200721001

摘要

采用电弧离子镀技术在烧结钕铁硼表面沉积Al薄膜.利用表面轮廓仪、扫描电镜、激光共聚焦、电化学工作站和盐雾试验箱分析了负偏压和本底真空度对镀层形貌、性能和沉积速率的影响.结果表明,镀层表面的液滴数量和粒径随负偏压和本底真空度的增加而减小;沉积速率与负偏压成反比,而与本底真空度成正比.在负偏压为-100 V 时沉积速率最大,达到4.85 μm/h.随着负偏压和本底真空度的增加,腐蚀电流密度减小,耐盐雾时长增加,负偏压为-200 V时Al/NdFeB样品具有较好的耐蚀性.