中微公司发布用于深紫外LED量产的MOCVD设备Prismo HiT3TM

• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 年，卷（期）: 2020,（5）
• 所属期刊栏目: 业界要闻
• 页码范围: 80
• 页数: 1页
• 语种: 中文

摘要

中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称"中微公司",日前宣布推出Prismo HiT3TM MOCVD设备,主要用于深紫外LED量产. 中微 Prismo 系列 MOCVD 设备目前已进入全球大多数领先的蓝绿光LED制造商,此次推出的Prismo HiT3TM是中微Prismo系列MOCVD设备的最新产品.该设备是适用于高质量氮化铝和高铝组分材料生长的关键设备,反应腔最高温度可达1400 ℃,具有优异的工艺重复性、均匀性和低缺陷率.该设备同时也为高产量而设计,单炉可生长18片50 mm(2英寸)外延晶片,并可延伸到生长100 mm(4英寸)晶片.