集成电路制造工艺中的化学原理与应用

• 作者: 杨高琦
• 来源期刊: 集成电路应用
• 关键词: 集成电路制造 化学反应 光刻 刻蚀 氧化 薄膜沉积 工艺
• 年，卷（期）: 2020,（5）
• 所属期刊栏目: 工艺与制造|Process and Fabrication
• 页码范围: 36-39
• 页数: 4页
• 分类号: TN405|TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.19339/j.issn.1674-2583.2020.05.012

摘要

基于芯片制备工艺中所应用的化学反应过程,阐述光刻、刻蚀、氧化、薄膜沉积工艺中所涉及的化学反应与原理,对理解半导体芯片制造中的化学过程具有重要意义.