高能激光单晶硅反射镜纳米精度控形控性制造技术

• 作者: 石峰 田野 乔硕 周光奇 宋辞 薛帅 铁贵鹏 周林 舒勇 周港
• 来源期刊: 中国激光
• 关键词: 光学制造 高能激光系统 单晶硅元件 浸没式光顺抛光 离子束抛光
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 所属期刊栏目: 综述|Reviews
• 页码范围: 128-136
• 页数: 9页
• 分类号: O436
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL202148.0401007

摘要

单晶硅反射镜是高能激光系统中的重要元件,其加工质量直接影响着高能激光系统的整体性能指标.针对单晶硅反射镜加工过程中产生的各类缺陷问题,本研究团队提出了采用超精密切削、浸没式抛光、磁流变抛光、离子束抛光等超精密加工方法来提升单晶硅元件的加工质量,并开展了相关研究.本文主要综述了本团队近几年在单晶硅制造技术领域取得的研究进展,包括单晶硅纳米精度表面控形制造技术、单晶硅纳米精度本征表面控性生成方法、纳米精度控形控性组合工艺等一系列关键技术.通过探讨高能激光单晶硅元件制造的现状与关键技术,为实现单晶硅元件纳米精度控形控性制造提供技术支撑.