用于烧结碳化硼陶瓷的低温快速直流烧结设备

• 作者: 杜程 闫琪 魏智才
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 关键词: 碳化硼 DCS 烧结 致密度
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 385-390
• 页数: 6页
• 分类号: TH69
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjvst.202007018

摘要

碳化硼新型陶瓷具有低密度、高硬度、高模量等优良特性,被广泛用来制造军工防弹装甲、航天核能材料.本文总结与分析了目前烧结碳化硼陶瓷的主要烧结方法,并就本公司研发的用于快速低温烧结碳化硼陶瓷的DCS烧结炉主要结构、参数与控制系统进行了说明与介绍,并成功探索出致密度大于99.5％的碳化硼烧结工艺,烧结温度与烧结时间均大幅下降,降低了碳化硼陶瓷烧结的时间与成本.