氢退火工艺对非晶硅光学性能的影响

• 作者: 曾璞 罗杰平 刘从吉 罗丹 袁菲 罗辉 王兴伦 王路 钱煜 关晟
• 来源期刊: 集成电路应用
• 学科: 工学
• 关键词: 非晶硅 等离子化学气相沉积 退火 折射率 消光系数 傅立叶红外吸收谱
• 年，卷（期）: 2022,（1）
• 所属期刊栏目: 工艺与制造|Process and Fabrication
• 页码范围: 43-45
• 页数: 3页
• 分类号: TN321.5|TN305
• 语种: 中文
• DOI: 10.19339/j.issn.1674-2583.2022.01.014

摘要

阐述利用等离子化学气相沉积制备了非晶硅材料,然后在不同浓度的氢气气氛下进行了等离子退火处理,并对其折射率,消光系数和傅立叶红外吸收谱进行了测试分析.结果显示,不同浓度的氢气氛等离子退火处理对非晶硅材料的光学性能有影响.