退火处理对氢化纳米晶/非晶硅两相薄膜的结构和光学性能的影响

• 作者: 丁建宁 王秀琴 袁宁一 郭立强 陈红敏
• 来源期刊: 常州大学学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: 氢化纳米晶/非晶硅两相薄膜 退火处理 稳定性
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 页码范围: 1-6
• 分类号: O472
• 字数: 3836字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-0411.2010.03.001

摘要

利用等离子化学气相沉积(PECVD)方法低温制备不同晶态比的氢化纳米晶/非晶硅两相薄膜,在高纯氮气下对其进行不同温度(300-500℃)的退火处理,并利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(Raman)、原子力显微镜(AFM)、傅里叶红外光谱(FT-IR)和紫外-可见光透射谱(UV-VIS)对其结构和光学性能进行研究.结果显示400-500℃退火在一定程度上提高了低晶态比的氢化纳米硅/非品硅两相薄膜的结晶度,而高晶态比的氢化纳米硅/非晶硅两相薄膜在500℃下退火20min,其结构和光学特性显示出比较好的热稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁建宁	常州大学低维材料微纳器件及系统研究中心	146	769	14.0	19.0
4	郭立强	江苏大学微纳米研究中心	12	24	3.0	4.0
11	王秀琴	常州大学低维材料微纳器件及系统研究中心	4	8	2.0	2.0
12	陈红敏	常州大学低维材料微纳器件及系统研究中心	1	0	0.0	0.0