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薄膜科学与技术
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主办单位：
南京电子器件研究所
ISSN：
CN：
出版周期：
双月刊
邮编：
210016
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刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年3期页码:摘要：
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刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年3期页码:摘要： 本文讨论了微电子器件的物理极限，评述了纳米信息存储技术的进展。
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刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年3期页码:摘要：
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刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年3期页码:摘要： 本文简略地回顾了离子束材料表面优化研究领域的发展及现状，着重介绍上海冶金研究所离子束开放研究实验室近年来在离子束薄膜合成及材料表面改性方面的研究工作。同时对离子束技术在工业中的应用进行了探讨...
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5. 离子镀技术的发展和现状刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年3期页码:摘要： 本文分析研究了国内外离子镀技术的动态，阐述了离子镀的特点，介绍了离子镀设备及工艺的发展和现状以及实用的离子镀膜检测方法。
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刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年3期页码:摘要：
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刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年3期页码:摘要：
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刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年3期页码:摘要： 近十年来超薄有序分子膜的研究发展非常迅速，在许多领域中的有着极为重要的应用前景。本报告将对有序分子膜的制备技术以及相应的表征方法等方面的国内外最新进展进行综述，并对超薄有序分子膜的液晶分子无...
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9. 硅基薄膜发光材料刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年3期页码:摘要： 硅是微电子技术的基础材料，硅集成技术已高度发展，但硅却是非发光材料。为了发展硅基光电子技术，人们对硅基发光材料作了多方面的探索，其中有“缺陷工程”－在硅中引入作为辐射复合中心的杂技或缺陷，使...
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10. 硬质膜研究与发展的进展刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年3期页码:摘要： 八十年代以来硬质膜的发展是通过膜层选材、制备工艺改进和材料设计三条途径进行的。在硬膜新材料方面，金刚石、立方氮化硼和β－Ｓｉ３Ｎ４等超硬膜近年来最受重视。然而，以ＴｉＮ为代表的硬度在Ｈｖ１５...
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11. ITO膜生产技术的新进展刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年3期页码:摘要： 用溅射的方法来制备ＩＴＯ膜已应用于平板显示技术，特别是高速磁控溅射技术的出现，又使ＩＴＯ膜实现大量生产成为可能。本文详细论述了ＩＴＯ膜生产线的设计要点，总体方案及其技术性能，并分析了各种工艺...
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刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年3期页码:摘要： 化学气相淀积（ＣＶＤ）由于其固有特点，做为一类操作简单，可以大批量低成本地提供大面积、高质量无机薄膜材料的实用化技术，近几年来出现若干新的发展，以适应现代科学技术领域发展的需要。本文拟就此状...
薄膜科学与技术基本信息
| 刊名 | 薄膜科学与技术 | 主编 | |
| 曾用名 | |||
| 主办单位 | 南京电子器件研究所 | 主管单位 | |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 | |
| ISSN | CN | ||
| 邮编 | 210016 | 电子邮箱 | |
| 电话 | 网址 | ||
| 地址 | 南京1601信箱43分箱 |
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