化学气相淀积（CVD）薄膜技术的新近发展及其应用

• 作者: 孟广耀
• 来源期刊: 薄膜科学与技术
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜 化学气相淀积 材料
• 年，卷（期）: 1995,（3）
• 页码范围: 273
• 页数: 1页
• 分类号: TB43

摘要

化学气相淀积（ＣＶＤ）由于其固有特点，做为一类操作简单，可以大批量低成本地提供大面积、高质量无机薄膜材料的实用化技术，近几年来出现若干新的发展，以适应现代科学技术领域发展的需要。本文拟就此状况进行综述评述。