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光学与光电技术2020年第6期出版文献
出版文献量（篇）
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9791
光学与光电技术
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Optics & Optoelectronic Technology
影响因子
0.4201
本刊以“武汉中国光谷”为依托，是中国光学学会光电技术专业委员会,中国仪器仪表学会光机电技术与系统集成分会,中国造船工程学会光电技术专业委员会,湖北省光学学会,湖北省激光学会会刊。2007年被收录为“中国科技论文统计源期刊”（中国科技核心期刊）,在本刊发表论文，一律免收版面费和审稿费。
主办单位：
华中光电技术研究所
武汉光电国家实验室
湖北省光学学会
ISSN：
1672-3392
CN：
42-1696/O3
出版周期：
双月刊
邮编：
430223
地址：
出版文献量（篇）
2142
总下载数（次）
3
总被引数（次）
9791
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刊名： 光学与光电技术发表期刊： 2020年6期页码:摘要： 以光学内补偿技术为研究对象,分析了内补偿光学系统中平行光束与柱面镜阵列的相对位置对出射光束的影响,论述了光学内补偿系统纵横摇补偿机构之间的耦合关系.结果表明光学内补偿系统的纵横摇补偿之间相互...
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光学与光电技术基本信息
| 刊名 | 光学与光电技术 | 主编 | 潘德彬 |
| 曾用名 | |||
| 主办单位 | 华中光电技术研究所 武汉光电国家实验室 湖北省光学学会 | 主管单位 | 湖北省科学技术协会 |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 |
chi
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| ISSN | 1672-3392 | CN | 42-1696/O3 |
| 邮编 | 430223 | 电子邮箱 | 717yfb@vip.sina.com |
| 电话 | 027-59002236 | 网址 | |
| 地址 | 武汉市阳光大道717号 |
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