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微纳电子技术期刊
出版文献量（篇）
3266
总下载数（次）
22

微纳电子技术

Micronanoelectronic Technology
曾用名： 半导体情报(1964-2001)

AJSACSTPCD

影响因子 0.4364
《微电子技术》以促进我国纳米电子技术不断发展为办刊目的。 创刊4年以来，汇集了纳米电子、机械、材料、制造、测量以及物理、化学和生物等不同学科新生长出来的微小和微观领域的科学技术群体，通过报道国内外纳米电子技术方面的研究论文和综述动态,为纳米研究领域的技术人员提供纳米技术领域新的突破方法和新的研究方向，为纳米技术领域中从事原始创新和基础探索的科研工作者、大学教师和学生提供了一个纳米电子技术成... 更多
主办单位：
中国电子科技集团公司第十三研究所
期刊荣誉：
俄罗斯《AJ》收录  美国《剑桥科学文摘》收录  英国《SA》,INSPEC数据库收录 
ISSN：
1671-4776
CN：
13-1314/TN
出版周期：
月刊
邮编：
050002
地址：
石家庄市179信箱46分箱
出版文献量（篇）
3266
总下载数（次）
22
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  • 1. SiC和GaN电子材料和器件的几个科学问题
    作者： 李效白
    刊名： 微纳电子技术
    发表期刊： 2004年11期
    页码:  1-6
    摘要： 扼要地叙述了宽禁带半导体SiC和GaN电子材料和器件的发展状况,介绍了SiC多形体、AlGaN/GaN异质结极化效应、GaN器件的电流塌陷效应和陷阱效应、SiC和GaN器件的特征工艺问题(离...
  • 2. 微流控分析芯片制作中的低温键合技术
    作者： 夏之宁 辛龙涛 陈华
    刊名： 微纳电子技术
    发表期刊： 2004年11期
    页码:  7-11
    摘要： 微流控分析芯片制作方法的研究是微流控分析的基础.制作性能良好的微流控分析芯片时,基片与盖片的键合技术十分重要.本文针对近年来发展迅速的低温键合技术,对各种方法进行了评价,并对其发展前景进行了...
  • 3. RTD多值逻辑电路原理与电路模拟
    作者： 刘宏伟 牛萍娟 郭维廉
    刊名： 微纳电子技术
    发表期刊： 2004年11期
    页码:  12-16
    摘要： 由共振隧穿二极管(RTD)和高电子迁移率晶体管(HEMT)构成的多值逻辑(MVL)电路可以用最少的器件来完成一定的逻辑功能,达到大大简化电路的目的.共振隧穿二极管和高电子迁移率晶体管属于量子...
  • 4. 纳米金属氧化物粉体的液相制备和表征进展
    作者： 刘辉 朱梅英 魏雨
    刊名： 微纳电子技术
    发表期刊： 2004年11期
    页码:  17-23,38
    摘要： 根据国内外研究者的报道及作者近几年来对纳米金属氧化物的制备研究结果,介绍了纳米金属氧化物液相法制备中常用的方法及表征手段,并探讨了纳米粉体制备过程中的团聚和反团聚措施.
  • 5. 退火温度对纳米ZnO薄膜结构与发光特性的影响
    作者： 修向前 张荣 施毅 谢自力 郑有炓 陈晓清 韩平 顾书林
    刊名： 微纳电子技术
    发表期刊： 2004年11期
    页码:  24-27
    摘要： 利用溶胶-凝胶法在硅衬底上制备了纳米ZnO薄膜.研究了热处理对ZnO薄膜的质量与发光性能的影响.结果表明,纳米ZnO薄膜具有六方纤锌矿结构,并且,随着退火温度的升高,ZnO的晶粒变大,c轴取...
  • 6. MOEMS静电旋转结构的Pull-in现象分析
    作者： 万江文 岳宁煜
    刊名： 微纳电子技术
    发表期刊： 2004年11期
    页码:  28-31,38
    摘要： 对MOEMS静电旋转结构的Pull-in(吸合)现象进行了理论分析,重点研究了平板电极旋转结构和摆动梳齿旋转结构.摆动梳齿旋转结构不出现Pull-in现象的原因是电容变化率为恒值;平板电极旋...
  • 7. 微机电系统的微细加工技术
    作者： 卢文娟 孔祥东 宋会英 张玉林
    刊名： 微纳电子技术
    发表期刊： 2004年11期
    页码:  32-38
    摘要： 详细阐述了硅微加工工艺以及近几年内国际上开发的一些新的加工技术,如3D电化学微加工、EFAB工艺等,并提出了目前这些方法中存在的缺陷.
  • 8. 硅电容压力传感器敏感器件的研究
    作者： 刘沁 匡石 孙海玮 张治国 李颖 林洪 祝永峰 褚斌 陈信琦
    刊名： 微纳电子技术
    发表期刊： 2004年11期
    页码:  39-42
    摘要： 研制的硅电容压力传感器芯体采用微机械加工技术,加工精度高,易于批量化生产.结构上采用对称的差动电容形式,并将其封装在专用基座中,适用于中、微压力的高精度测量,可用于目前通用压力传感器的升级产...
  • 9. 光刻版图形处理过程的计算机仿真
    作者： 曹庄琪 粟鹏义 陈开盛
    刊名： 微纳电子技术
    发表期刊： 2004年11期
    页码:  43-45
    摘要： 采用有限状态机模型来仿真集成电路行业中光刻版图形的处理过程,涵括了层次处理、涨缩处理和反转处理.将不同的处理过程定义为相应的状态,将图形处理要求定义为输入条件触发状态转换.该模型已应用于光刻...
  • 10. 浸没式光刻技术
    作者： 吴龙海
    刊名： 微纳电子技术
    发表期刊： 2004年11期
    页码:  46-48
    摘要： 综合叙述了浸没式光刻技术的基本工作原理和相对于157 nm干式光刻技术的优势,简要介绍了当前的研发动态并对其具体实现的问题进行探讨.
  • 11. 罗门哈斯电子材料公司推出用于90nm低k系列阻挡层研磨液
    作者：
    刊名： 微纳电子技术
    发表期刊： 2004年11期
    页码:  48
    摘要：

微纳电子技术基本信息

刊名 微纳电子技术 主编 李和委
曾用名 半导体情报(1964-2001)
主办单位 中国电子科技集团公司第十三研究所  主管单位 中华人民共工业和信息化部
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1671-4776 CN 13-1314/TN
邮编 050002 电子邮箱 wndz@vip.sina.com
电话 0311-87091487 网址 www.wndz.org
地址 石家庄市179信箱46分箱

微纳电子技术评价信息

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