微纳电子技术期刊
出版文献量(篇)
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微纳电子技术

Micronanoelectronic Technology
曾用名: 半导体情报(1964-2001)

AJSACSTPCD

影响因子 0.4364
《微电子技术》以促进我国纳米电子技术不断发展为办刊目的。 创刊4年以来,汇集了纳米电子、机械、材料、制造、测量以及物理、化学和生物等不同学科新生长出来的微小和微观领域的科学技术群体,通过报道国内外纳米电子技术方面的研究论文和综述动态,为纳米研究领域的技术人员提供纳米技术领域新的突破方法和新的研究方向,为纳米技术领域中从事原始创新和基础探索的科研工作者、大学教师和学生提供了一个纳米电子技术成... 更多
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
期刊荣誉:
俄罗斯《AJ》收录  美国《剑桥科学文摘》收录  英国《SA》,INSPEC数据库收录 
ISSN:
1671-4776
CN:
13-1314/TN
出版周期:
月刊
邮编:
050002
地址:
石家庄市179信箱46分箱
出版文献量(篇)
3266
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16974
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  • 作者: 袁明文
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  1-6
    摘要: 简要介绍了几种晶体管,包括柔性晶体管、单原子晶体管、单电子晶体管、单自旋晶体管、量子力学晶体管、谐振隧穿晶体管、薄膜晶体管、透明晶体管和纳米晶体管的新概念.
  • 作者: 张荣兰 王世明 王慧 田臻锋 郭茂田 陈兴科
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  7-12,47
    摘要: 介绍了纳米量级PEBBLE传感器的特点、制备方法、当前的应用及发展趋势,重点阐述了基于对细胞内氧成分探测的比例参量PEBBLE传感器.
  • 作者: 余本海 刘志弘 刘江峰 钱佩信 陈长春
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  13-18
    摘要: 详细介绍了应变Si技术产生的起因及特性、应变Si器件的优势、应变Si器件应用中存在的问题并对应变Si技术的市场应用前景作了简单的介绍.
  • 作者: 杨邦朝 王步冉
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  19-21
    摘要: 分析了日本纳米科技专利的数量与领域的分布情况,介绍了日本产业界发展纳米科技的现状,为我国纳米科技研究工作者提供借鉴.
  • 作者: 刘文磊 刘连利 杨玉强 王梦魁
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  22-24,36
    摘要: 重点研究了由CdO-SnO2-WO3系列(简称Cd-Sn-W)和CdO-Sb2O3-WO3系列(简称Cd-Sb-W)及由它们共同组成的双基体三相(Cd2Sb2O7,CdSnO3,CdWO4)...
  • 作者: 汤国庆 陈平 高博文
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  25-29
    摘要: 详细研究了HA(竹红菌甲素)在分子筛MCM-41中的光谱特性.观察到HA在强激光脉冲激发下产生了双光子吸收,指认长波荧光发射带为激发态质子转移荧光.结果表明,只有在强光作用下才会发生激发态质...
  • 作者: 周勇 王西宁 蔡炳初 赵小林
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  30-32
    摘要: 利用MEMS工艺制作了一种双层悬空结构的圆形射频微电感,研究了双层结构微电感中微带线宽度对其性能的影响.研究表明,双层悬空结构的圆形射频微电感不仅具有较大的电感量,而且其Q值也较高;双层微电...
  • 作者: 冯勇建 张丹 林雁飞 郑志霞
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  33-36
    摘要: 在玻璃上刻蚀凹槽作为腔体,是半导体制造工艺中一个新方法.本文讨论了玻璃湿法腐蚀的工艺方法,通过清洗、涂胶、光刻、腐蚀等工艺的反复实验,分析了涂胶厚度与甩胶速率的关系,腐蚀深度随腐蚀时间的变化...
  • 作者: 王书运
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  37-41
    摘要: 介绍了用于纳米颗粒测量的电镜观察法、X射线衍射线宽法、激光粒度分析法、比表面积法、颗粒沉降法、扫描探针显微术以及小角X射线散射等,并对其测量原理、测量过程、适用范围及测量方法的优缺点进行了讨...
  • 作者: 周金梅 曹益平 梁友生 邢廷文
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  42-47
    摘要: 为了改善对准精度,对100 nm级线宽尺寸建立了掩模硅片自动对准数学模型,应用于同轴离轴混合对准系统的硅片模型、掩模模型以及工件台模型中.掩模硅片自动对准算法决定机器坐标系、掩模坐标系、硅片...
  • 作者:
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2005年1期
    页码:  48-48
    摘要:

微纳电子技术基本信息

刊名 微纳电子技术 主编 李和委
曾用名 半导体情报(1964-2001)
主办单位 中国电子科技集团公司第十三研究所  主管单位 中华人民共工业和信息化部
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1671-4776 CN 13-1314/TN
邮编 050002 电子邮箱 wndz@vip.sina.com
电话 0311-87091487 网址 www.wndz.org
地址 石家庄市179信箱46分箱

微纳电子技术评价信息

期刊荣誉
1. 俄罗斯《AJ》收录
2. 美国《剑桥科学文摘》收录
3. 英国《SA》,INSPEC数据库收录

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