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微纳电子技术2012年第3期出版文献
出版文献量（篇）
3266
总下载数（次）
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总被引数（次）
16974
微纳电子技术
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《微电子技术》以促进我国纳米电子技术不断发展为办刊目的。
创刊4年以来，汇集了纳米电子、机械、材料、制造、测量以及物理、化学和生物等不同学科新生长出来的微小和微观领域的科学技术群体，通过报道国内外纳米电子技术方面的研究论文和综述动态,为纳米研究领域的技术人员提供纳米技术领域新的突破方法和新的研究方向，为纳米技术领域中从事原始创新和基础探索的科研工作者、大学教师和学生提供了一个纳米电子技术成...
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主办单位：
中国电子科技集团公司第十三研究所
期刊荣誉：
俄罗斯《AJ》收录
美国《剑桥科学文摘》收录
英国《SA》,INSPEC数据库收录
ISSN：
1671-4776
CN：
13-1314/TN
出版周期：
月刊
邮编：
050002
地址：
出版文献量（篇）
3266
总下载数（次）
22
总被引数（次）
16974
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1. 量子点外延生长新模型刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2012年3期页码:摘要： 目前在原子尺度上人们对量子点分子束外延生长过程了解很少,所有关于量子点外延生长的理论模型和计算机模拟都是建立在传统的外延生长理论框架内.在传统理论框架内,量子点的生长过程被理解为发生在生长表...
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2. QCA电路的缺陷研究刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2012年3期页码:摘要： 针对量子元胞自动机电路中出现的元胞移位等元胞缺陷,介绍了基于QCADesigner的元胞缺陷分析,得出了特定结构的容错范围.对于制造过程出现的单电子故障,分析了不同输入时单电子故障对传输线和...
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刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2012年3期页码:摘要： 基于密度泛函理论的第一性原理方法,在广义梯度近似下,研究了(5,0)和(5,5)硅纳米管结构和电子性质.计算结果表明:(5,0)管硅原子相邻键长波动范围为0.068 nm,大于(5,5)管的...
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刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2012年3期页码:摘要： 染料敏化太阳电池以其良好的电池性能、简单的制作工艺、廉价的制作成本等优点越来越受到人们的关注.尝试用水热合成法在透明导电玻璃FTO (SnO2∶F)衬底上一步制备出高度有序的TiO2单晶纳米...
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刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2012年3期页码:摘要： 主要研究了无源压力传感器的无线信号传输性能.传感器结构由压力敏感电容空腔和电感天线组成,内部无需有源器件、电池等.通过压力敏感结构电感天线的金属层厚度、线宽等因素的改变来研究无线信号传输性能...
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6. MEMS微型热管研究进展刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2012年3期页码:摘要： MEMS微型热管作为一种新型的热管技术,在微电子、光电池、红外探测头和激光二极管等的热控制方面具有很大的应用前景.首先,介绍了MEMS微型热管的特点和基本工作原理,简单回顾了其发展历程.然后...
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7. 石英微机械陀螺的研究进展刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2012年3期页码:摘要： 首先介绍了石英微机械陀螺基于压电效应和科氏加速度的工作原理,回顾了石英微机械陀螺的发展历程,并且介绍了石英微机械陀螺的国内外发展现状.然后,针对石英微机械陀螺不同的结构进行了分类,并且对于不...
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刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2012年3期页码:摘要： 通过分别改变电感耦合等离子体(ICP)刻蚀过程中的ICP功率和DC偏压,对ICP刻蚀GaN材料的工艺条件和损伤情况进行了系统的研究.刻蚀后表面的损伤和形貌通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力...
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刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2012年3期页码:摘要： 以SU-8作为结构材料,采用紫外光刻工艺,尤其以斜曝光工艺为主,加工出主光轴平行于衬底基片的微透镜阵列,单个微透镜的直径大约为500 μm.初步确定出加工此透镜所需要的曝光剂量、前烘时间、后...
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10. NiCu双金属电极电催化析氢刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2012年3期页码:摘要： 采用恒电流共沉积方法制备了具有纳米结构的NiCu双金属电极.采用线性扫描、塔菲尔曲线、电流时间曲线及电化学阻抗谱对NiCu双金属电极电催化析氢的性能进行了测试；并且还利用X射线衍射(XRD)...
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11. 铌酸锂干法刻蚀的研究进展刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2012年3期页码:摘要： 概述了近年来国内外对铌酸锂(LN)晶体干法刻蚀技术的研究进展.根据刻蚀原理和特点,现有的LN干法刻蚀技术可分为等离子体刻蚀、激光微加工技术和Ti扩散电化学刻蚀.对各刻蚀方法及其研究进展进行了...
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12. 硫化镉晶片抛光工艺研究刊名： 微纳电子技术发表期刊： 2012年3期页码:摘要： 研究了硫化镉(CdS)晶片Cd面的化学机械抛光(CMP)工艺.采用硅溶胶抛光液和NaClO氧化剂,分别使用聚氨脂和磨砂革抛光垫进行粗抛和精抛实验,并研究了氧化剂掺入量、抛光转速、抛光压力等工...
微纳电子技术基本信息
| 刊名 | 微纳电子技术 | 主编 | 李和委 |
| 曾用名 | 半导体情报(1964-2001) | ||
| 主办单位 | 中国电子科技集团公司第十三研究所 | 主管单位 | 中华人民共工业和信息化部 |
| 出版周期 | 月刊 | 语种 |
chi
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| ISSN | 1671-4776 | CN | 13-1314/TN |
| 邮编 | 050002 | 电子邮箱 | wndz@vip.sina.com |
| 电话 | 0311-87091487 | 网址 | www.wndz.org |
| 地址 | 石家庄市179信箱46分箱 |
微纳电子技术评价信息
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| 1. | 文摘杂志(俄) |
| 2. | 科学文摘(英) |
| 3. | 中国科技论文统计与引文分析数据库 |
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| 1. | 俄罗斯《AJ》收录 |
| 2. | 美国《剑桥科学文摘》收录 |
| 3. | 英国《SA》,INSPEC数据库收录 |
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