真空科学与技术学报期刊
出版文献量(篇)
4084
总下载数(次)
3
总被引数(次)
19905

真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名: 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊,长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录,已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅,有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿,已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位:
中国真空学会
ISSN:
1672-7126
CN:
11-5177/TB
出版周期:
月刊
邮编:
100022
地址:
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
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  • 作者: 何延春 吴春华 王洁冰 许旻 赵印中 邱家稳
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  83-87
    摘要: 本文针对电致变色热控器件的透明导电层开展了ITO薄膜的制备工艺研究,对薄膜制备过程中的几个主要影响因素(溅射压强、氩/氧比例、退火温度等)进行了分析,并测试了薄膜性能,制备的ITO薄膜电阻在...
  • 作者: 蒋钊 陈学康
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  17-21
    摘要: 薄膜应力普遍存在于薄膜元器件中,从而影响薄膜器件性能,限制了其良好的应用前景.所以控制薄膜的应力,消除其不良影响,是薄膜生产工艺中不可或缺的技术手段.本文对此详细阐述了几种常用的薄膜应力控制...
  • 作者: 伍建华 张官理 望咏林 温培刚 颜悦
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  1-4
    摘要: 基于双极脉冲磁控溅射复合离子束辅助沉积的新工艺,在透明塑料聚碳酸酯基片上,常温制备了透明导电的铟锡氧化物(ITO)薄膜.重点研究了不同辅助离子束功率密度对ITO薄膜晶体结构和表面形貌的影响....
  • 作者: 于威 傅广生 张子才 张锦川 杨丽华 滕晓云
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  22-25
    摘要: 采用脉冲激光沉积技术在蓝宝石(α-Al2O3)衬底上制备了不同Mn掺杂浓度的ZnO薄膜.实验结果表明,合适浓度的Mn的掺人,有利于ZnO:Mn薄膜(002)生长而不形成Mn的氧化物,同时,所...
  • 作者: 严鹏 姬寿长 李争显 潘晓龙 王宝云 王少鹏 黄春良
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  60-63
    摘要: 采用独立的高纯钛、铝靶,在TC4钛合金基材表面以电弧离子镀工艺沉积制备了TiAIN涂层.利用扫描电子显微镜(SEM)对比分析了钛合金基体和涂层热疲劳及氧化前后的表面形貌,利用能谱仪(EDS)...
  • 作者: 曹猛 李强 李德军 杨莹 邓湘云
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  29-32
    摘要: 本文利用高真空离子束辅助沉积系统(IBAD),在室温下制备了ZrN、TiAlN和一系列ZxN/TiAlN纳米多层膜,利用XRD、纳米力学测试系统和多功能材料表面性能实验仪,分析了束流和基底温...
  • 作者:
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  插1
    摘要:
  • 作者: 张礼平 李剑锋 李国卿 楚信谱 苟伟
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  33-37
    摘要: 类金刚石碳膜以其优异的性能,诸如高电阻率、高硬度、低摩擦系数、良好的光学特性等显示出良好的应用前景,越来越受到人们的关注.本文利用脉冲辉光PECVD在不同的脉冲电压下成功地制备了DIE薄膜....
  • 作者: 张天伟 杨会生 王燕斌 罗庆红 陆永浩
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  74-78
    摘要: 采用基片加热和后期热处理的手段使ITO薄膜结晶和调整其组织结构来降低电阻的方法,已经被广泛应用于在玻璃等基体上制备ITO薄膜.但是随着不耐高温的柔性基体的广泛使用,ITO薄膜低温生长已经成为...
  • 作者: 朱昌 梁海峰 邵霄
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  56-59
    摘要: 采用磁过滤直流电弧离子镀法在不同的CH4分压下制备了一系列的TiC薄膜,利用XRD和EDX表征了薄膜的相组成和微结构,用MCMS-1摩擦磨损测试仪,研究了不同CH4分压对薄膜摩擦性能的影响,...
  • 作者: 任高潮 王德苗 苏达 赵欢畅 陈省区
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  98-101
    摘要: 随着电磁污染的日益严重以及塑料在电子产品封装上的广泛应用,对电子产品进行电磁屏蔽设计已成为必然趋势.本文采用磁控溅射的方法在PET塑料基底上沉积多种膜系的金属屏蔽膜层,并对金属膜层的制备工艺...
  • 作者: 亢原彬 刘思鹏 李德军 王晖 邓湘云
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  26-28
    摘要: 利用射频磁控溅射技术,在室温下合成了具有纳米调制周期的TiB2/TiAlN多层膜.分别采用表面轮廓仪、纳米力学测试系统、多功能材料表面性能实验仪和XRD,分析了调制周期对TiB2/TiAlN...
  • 作者: 于广华 刘洋 李明华 金川
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  5-8
    摘要: 采用磁控溅射方法制备了以Pt为缓冲层和保护层的NiFe/FeMn薄膜.在NiFe/FeMn界面插入Pt,发现交换偏置场(Hex)随着插层Pt厚度(tPt)的增加而减小.一个重要的现象是当Pt...
  • 作者: 何婵 冷永祥 黄楠 齐峰
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  47-51
    摘要: 本文利用非平衡磁控溅射设备,采用四种不同的TiN到Ti-O的过渡方式,在Si(100)和Ti6A14V基体上制备了TiN/Ti-O薄膜.采用X射线衍射(XRD)分析薄膜的结构;使用AMBIO...
  • 作者: 吴广明 周斌 张明霞 杨辉宇 汪国庆 沈军 牛锡贤 王爱荣
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  68-73
    摘要: 本文采用了单壁碳纳米管(SWCNTs)与V2O5气凝胶进行复合.首先采用混酸处理的方法对SWCNTs进行预处理,然后与V2O5溶胶进行复合.V2O5复合气凝胶薄膜材料的制备过程,主要是以v2...
  • 作者: 于栋利 张天伟 杨会生 王燕斌 罗庆洪 陆永浩
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  13-16
    摘要: 硬质涂层对工件表面改性已经成为现代先进制造加工行业越来越重视的工艺,工件一般为复杂外形,保证工件表面涂层性能结构的一致性尤为重要,为此,必须研究工件与靶源之间的相对位置对涂层结构性能影响的关...
  • 作者: 修向前 吴军 夏冬梅 张荣 梅琴 王荣华 葛瑞萍 谢自力 赵红 郑有炓 韩平
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  52-55
    摘要: 用化学气相淀积方法在Si(100)衬底上外延生长Ge组分渐变的Si1-xGex:C合金薄膜.本文通过能量色散谱仪乔(EDS)和扫描电子显微镜(SEM)对合金薄膜的元素深度分布和表面形貌进行了...
  • 作者: 付廷波 刘红飞 张志萍 程晓农
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  42-46
    摘要: 采用WO3和ZrO2复合陶瓷靶材,以射频磁控溅射法在石英基片上沉积制备了ZrW2O8薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、表面粗糙轮廓仪和扫描电子显微镜(SEM),研究了不同工艺参数和不同退火温...
  • 作者: 伍建华 张官理 张定国 徐军 望咏林 温培刚 董闯 陆文琪 颜悦
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  79-82
    摘要: 与大连理工大学合作研制了新型Langmuir静电探针.应用研制的静电探针,对氩气直流磁控溅射铜等离子体进行了轴向和径向二维空间内的诊断.诊断结果显示:电子温度随着离靶面距离增大而递减;电子密...
  • 作者: 吴军 张荣 曹亮 梅琴 王荣华 葛瑞萍 谢自力 郑有炓 陆海 陈鹏 韩平 顾书林
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  9-12
    摘要: 本工作采用化学气相淀积方法,以GcH4为反应气源,以InN/CaN/Al2O3(0001)复合衬底作陪片,在CaN/Al2O3(0001)复合衬底上外延生长了Ge薄膜,并对生长机理进行了探讨...
  • 作者: 夏元化 张礼平 李剑锋 李国卿 王兆松 董闯
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  38-41
    摘要: 研究了在AZ31镁合金表面依次进行浸锌、化学镀镍、电镀铜、电弧离子镀Cr/CaN的复合镀膜工艺.结果表明,在此复合镀工艺条件下,可以在AZ31镁合金表面形成致密度高、结合强度好、耐蚀性好且硬...
  • 作者: 严鹏 姬寿长 李争显 潘晓龙 王宝云 王少鹏
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  64-67
    摘要: 采用高纯铝、钛两个靶材,分别在纯钛TA2和钛合金TC11基材上沉积制备了TiAlN膜层.用扫描电子显微镜(SEM)观察了膜层的形貌、用能谱仪(EDS)分析了膜层的成分.结果表明:在不同基材上...
  • 作者: 丁耀根 刘光诒 吕庆年 吕永积 夏善红 李宏彦 王建英 王德安
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  88-92
    摘要: 本研究涉及几种自制碳场电子发射体,介绍探索这些碳场电子发射体应用的过程中,在真空电子学、真空微/纳电子学(VMF/VNE)领域内获得成功的方面.研究工作涉及到了一些新开发的真空微电子学与真空...
  • 作者: 任高潮 王德苗 邵净羽
    发表期刊: 2008年z1期
    页码:  93-97
    摘要: 本文提出了一种新颖的可精确、快速、清洁的减薄薄膜的技术--真空激光减薄技术.即指利用激光器发出的脉冲激光束聚焦成直径很小的光斑,调节到适当的能量密度,对真空环境中的薄膜层进行高速扫描,从而减...

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
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ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
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真空科学与技术学报统计分析

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