薄膜的应力控制技术研究现状

• 作者: 蒋钊 陈学康
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 应力 控制技术
• 年，卷（期）: 2008,（z1）
• 所属期刊栏目: 综述评论
• 页码范围: 17-21
• 页数: 5页
• 分类号: O484.2
• 字数: 2448字
• 语种: 中文

摘要

薄膜应力普遍存在于薄膜元器件中,从而影响薄膜器件性能,限制了其良好的应用前景.所以控制薄膜的应力,消除其不良影响,是薄膜生产工艺中不可或缺的技术手段.本文对此详细阐述了几种常用的薄膜应力控制方法,并对以后研究工作的开展提出几点要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈学康	兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室	24	197	7.0	13.0
2	蒋钊	兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室	3	44	3.0	3.0