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等离子刻蚀铬膜的研究
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文献信息
| 篇名 | 等离子刻蚀铬膜的研究 | ||
| 来源期刊 | 科技通讯（上海船厂） | 学科 | 工学 |
| 关键词 | 等离子 铬膜 刻蚀 集成电路 | ||
| 年，卷（期） | 1989,（3） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 54-57 | |
| 页数 | 4页 | 分类号 | TN405.982 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
五维指标
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1989(0)
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研究主题发展历程
节点文献
等离子
铬膜
刻蚀
集成电路
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相关学者/机构
期刊影响力
科技通讯（上海船厂）
主办单位：
上海求新造船厂科技办公室
出版周期：
双月刊
ISSN：
CN：
开本：
出版地：
上海市机厂路132号
邮发代号：
创刊时间：
语种：
出版文献量（篇）
142
总下载数（次）
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