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光学和电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术
微光刻技术
微纳米加工技术
电子束直写
匹配与混合光刻技术
电子束缩小投影曝光机对准模拟软件设计
对准技术
标记对准模拟软件
电子束缩小投影曝光机
低能电子束散射模拟在邻近效应修正中的应用
低能电子束曝光
Monte Carlo模拟
二次电子
邻近效应修正
一种自参考的可变分辨率片上抖动测量系统
自参考结构
游标延时链
数字可控延时单元
真单相时钟
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 可变矩形与高斯圆形电子束曝光系统的分辨率
来源期刊 LSI制造与测试 学科 工学
关键词 电子束曝光 分辨率 高斯圆形 矩形
年,卷(期) 1991,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 7-12
页数 6页 分类号 TN405.7
字数 语种
DOI
五维指标
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1991(0)
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研究主题发展历程
节点文献
电子束曝光
分辨率
高斯圆形
矩形
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
LSI制造与测试
双月刊
31-1459/TN
上海江西中路450号
出版文献量(篇)
366
总下载数(次)
0
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0
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