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锑化镓的化学情况和刻蚀
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研究主题发展历程
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锑化镓
化学刻蚀剂
半导体刻蚀
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期刊影响力
上海微电子技术和应用
主办单位：
出版周期：
季刊
ISSN：
1006-9453
CN：
31-1239/TN
开本：
出版地：
上海市胶州路397号 上海半导体器件研究
邮发代号：
创刊时间：
语种：
出版文献量（篇）
435
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3
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