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PECVD氮化硅薄膜制备工艺研究
氮化硅
薄膜
等离子体增强化学气相淀积(PECVD)
原子力显微镜(AFM)
台阶仪
氮化碳薄膜的制备及研究现状
氮化碳薄膜
制备
性能表征
PECVD SiC薄膜的应力控制及抗腐蚀特性研究
微机电系统
碳化硅
等离子体增强化学气相淀积
薄膜
应力
离子注入
抗腐蚀
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
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文献信息
篇名 用RF PECVD方法形成氮化碳薄膜
来源期刊 等离子体应用技术快报 学科 物理学
关键词 射频 PECVD 薄膜 非晶形 氮化碳
年,卷(期) 1998,(10) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 6-7
页数 2页 分类号 O484.1
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1998(0)
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研究主题发展历程
节点文献
射频
PECVD
薄膜
非晶形
氮化碳
研究起点
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研究分支
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相关学者/机构
期刊影响力
等离子体应用技术快报
月刊
四川省成都市432信箱
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864
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