溅射总压对氧化钒薄膜的结构及电致变色性质的影响

• 作者: 李智勇 王忠春 胡行方 陈晓峰
• 来源期刊: 硅酸盐学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电致变色 氧化钒薄膜 光学性质 磁控溅射
• 年，卷（期）: 1999,（1）
• 页码范围: 28-33
• 页数: 6页
• 分类号: TQ174
• 字数: 2636字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0454-5648.1999.01.005

摘要

采用高频磁控溅射工艺制备了两种不同性能的V2O5薄膜,并研究了溅射总压对其微观结构、循环伏安特性及电致变色特性的影响. 结果表明:当功率一定(3.8W·cm-2)时,在高气压沉积的V2O5薄膜中出现了微晶相,而在低气压沉积的薄膜中为非晶相. 从循环伏安过程中实时记录的透过率变化曲线可见:随着Li+离子和电子的双重注入,薄膜在某一波长处的透过率前一阶段是增加或降低,而后一阶段却相反. 含微晶相的薄膜上述现象更为明显,而且其储存Li+离子的容量也要大许多. 应用能带结构理论定性地解释了V2O5薄膜复杂的电致变色现象.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈晓峰	中国科学院上海硅酸盐研究所	36	993	16.0	31.0
2	胡行方	中国科学院上海硅酸盐研究所	62	2055	24.0	44.0
3	李智勇	中国科学院上海硅酸盐研究所	11	71	4.0	8.0
4	王忠春	中国科学院上海硅酸盐研究所	3	42	3.0	3.0