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大F数硅微透镜阵列的制作及光学性能测试研究
大F数硅微透镜阵列的制作及光学性能测试研究
作者:
何苗
刘鲁勤
易新建
程祖海
黄光
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
微透镜阵列
离子束刻蚀
光刻胶
点扩散函数
摘要:
提出了一种补偿刻蚀法:在经过常规光刻热熔成形和离子束刻蚀技术制成的硅微透镜阵列上再涂敷几层光刻胶,以降低各单元微透镜的曲率,然后再次进行加热固化和离子束刻蚀.扫描电子显微镜(SEM)显示微透镜阵列为表面极为平缓的球冠形阵列,表面探针测试结果显示用补偿刻蚀法制作的微透镜的F数和F′数分别可达到31.62和35.88,而常规光刻热熔法很难制作出F数和F′数分别超过1.00和4.00的微透镜阵列.光学填充因子也由常规方法的64.3%提高至78.5%,并且微透镜的点扩散函数也更接近理想值.
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内容分析
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文献信息
篇名
大F数硅微透镜阵列的制作及光学性能测试研究
来源期刊
中国激光
学科
物理学
关键词
微透镜阵列
离子束刻蚀
光刻胶
点扩散函数
年,卷(期)
2000,(12)
所属期刊栏目
实验技术与元件
研究方向
页码范围
1097-1102
页数
6页
分类号
O43
字数
3233字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0258-7025.2000.12.011
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
黄光
华中科技大学激光技术国家重点实验室
10
144
7.0
10.0
2
易新建
华中科技大学激光技术国家重点实验室
102
1261
21.0
29.0
3
程祖海
华中科技大学激光技术国家重点实验室
97
785
14.0
21.0
4
何苗
华中科技大学激光技术国家重点实验室
8
50
4.0
7.0
5
刘鲁勤
航天机电集团二院二部
1
8
1.0
1.0
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
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引证文献(0)
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引证文献(2)
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2014(2)
引证文献(2)
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研究主题发展历程
节点文献
微透镜阵列
离子束刻蚀
光刻胶
点扩散函数
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国激光
主办单位:
中国光学学会
中科院上海光机所
出版周期:
月刊
ISSN:
0258-7025
CN:
31-1339/TN
开本:
大16开
出版地:
上海市嘉定区清河路390号 上海800-211邮政信箱
邮发代号:
4-201
创刊时间:
1974
语种:
chi
出版文献量(篇)
9993
总下载数(次)
26
总被引数(次)
105193
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