用微波电子自旋共振等离子源离子注入增强溅射沉积法在玻璃表面制备氧化铟膜

• 作者: 刘洪珠 王承遇 王波 陶瑛 马腾才
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化铟 玻璃涂层 半导体薄膜 离子注入
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 所属期刊栏目: 研究工作快报
• 页码范围: 22-24,12
• 页数: 4页
• 分类号: TQ17
• 字数: 1981字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1625.2000.02.007

摘要

利用微波电子自旋共振等离子源离子注入增强沉积法在玻璃表面制备了非化学计量半导体氧化铟膜.与反应溅射和反应沉积相比,此法制备的氧化铟膜与玻璃基体的附着良好,并因高的注入能量而改善了玻璃表面硬度.同时研究了In与O的结合能及浓度深度分布.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王承遇	大连轻工业学院玻璃及无机新材料研究所	154	771	15.0	23.0
2	陶瑛	大连轻工业学院玻璃及无机新材料研究所	118	408	9.0	17.0
3	王波	大连轻工业学院玻璃及无机新材料研究所	5	21	2.0	4.0
4	刘洪珠	大连轻工业学院玻璃及无机新材料研究所	1	8	1.0	1.0
5	马腾才	离子束、电子束和激光束材料改性实验室大连理工大学	1	8	1.0	1.0