Ar+刻蚀对MoS2润滑膜分子结构的影响

• 作者: 余来贵 吕晋军 杨生荣 齐尚奎
• 来源期刊: 摩擦学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 氩离子溅射 择优刻蚀 XPS AES 剖面分析
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 47-50
• 页数: 4页
• 分类号: O614.612|O657.62
• 字数: 2183字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0595.2001.01.011

摘要

采用Ar+离子溅射源进行XPS和AES 剖面分析，结果发现,Ar+对MoS2分子中的S原子产生“择优”选择刻蚀并随之生成非化 学计量比的MoSx，Mo原子被还原，Mo3d结合能值向低端位移约1.7 eV.应该注 意的是,采用Ar+溅射进行XPS剖面分析时不能确定材料表面和界面元素的化学价态，S/Mo 原子比同实验值之间亦存在差异,故应采用有关软件对实验结果进行修正

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	余来贵	中国科学院兰州化学物理研究所	23	671	13.0	23.0
2	吕晋军	中国科学院兰州化学物理研究所	60	777	13.0	26.0
3	杨生荣	中国科学院兰州化学物理研究所	104	1439	18.0	34.0
4	齐尚奎	中国科学院兰州化学物理研究所	18	123	6.0	10.0