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压印光刻对准中阻蚀胶层的设计及优化
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紫外光通信非线性光学晶体的研究
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频率变换
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 精密远紫外光刻中的对准优化
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词
年,卷(期) 2001,(4) 所属期刊栏目 专题译文
研究方向 页码范围 31-36
页数 6页 分类号 TN2
字数 5154字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2001.04.007
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相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
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3731
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