微波等离子体刻蚀对WC-Co硬质合金基体金刚石薄膜附着力的影响

• 作者: 刘学深 孙方宏 张志明 陈明
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: CVD金刚石涂层 微波等离子刻蚀 硬质合金 金刚石薄膜 附着力
• 年，卷（期）: 2001,（5）
• 所属期刊栏目: 金刚石/制品
• 页码范围: 5-8
• 页数: 4页
• 分类号: TG73
• 字数: 2714字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2001.05.001

摘要

金刚石薄膜的附着力是影响CVD金刚石涂层刀具切削性合金(YG6)基体上沉积金刚石涂层;用Ar-H2微波等离子对WC-Co衬底进行刻蚀处理,以改变基体表面与金刚石涂层间的界面结构,提高金刚石涂层的附着力;采用压痕法评估涂层附着力;借助SEM等观察刻蚀预处理方法对膜基界面的影响,并对此进行分析和讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙方宏	上海交通大学机械工程学院	91	969	17.0	25.0
2	陈明	上海交通大学机械工程学院	192	1907	22.0	35.0
3	张志明	上海交通大学机械工程学院	46	553	15.0	21.0
4	刘学深	上海交通大学机械工程学院	1	15	1.0	1.0