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摘要:
用一种比较简单的Jaffe近似方法计算了质子在SiO2中的电子空穴对的逃逸率,讨论了辐照偏置、电场、质子入射角度、质子能量等对逃逸产额的影响.得到了电子空穴对复合逃逸率与质子能量、电场成正比的结果.计算结果与实验结果的比较,说明了Jaffe近似方法可以比较正确地描述质子在二氧化硅中的总剂量效应.
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文献信息
篇名 用Columnar模型对电子空穴对复合逃逸产额的模拟计算
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 复合模型 逃逸产额 阻止本领 Columnar模型
年,卷(期) 2001,(9) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 1135-1138
页数 4页 分类号 TN386.1
字数 2969字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2001.09.010
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 罗尹虹 54 199 8.0 10.0
2 张正选 21 88 5.0 8.0
3 姜景和 18 78 6.0 7.0
4 王桂珍 32 156 7.0 9.0
传播情况
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2001(0)
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研究主题发展历程
节点文献
复合模型
逃逸产额
阻止本领
Columnar模型
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
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