基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
利用脉冲多弧离子镀技术在硅基底上沉积类金刚石薄膜。分析了类金刚石薄膜的硬度和工艺参数的关系,讨论了薄膜的耐磨性和化学稳定性。
推荐文章
磁透镜技术及其在沉积金刚石/类金刚石薄膜中的应用
磁透镜技术
金刚石沉积膜
类金刚石沉积膜
离子注入对多晶金刚石薄膜场发射特性影响的研究
离子注入
场致发射
金刚石薄膜
多弧离子镀(Ti,Cr)N薄膜在旋铆头中的应用
旋铆头
多弧离子镀
(Ti,Cr)N薄膜
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 脉冲多弧离子镀制备类金刚石薄膜的力学特性
来源期刊 机械科学与技术 学科 工学
关键词 脉冲多弧离子镀 类金刚石薄膜 薄膜性能
年,卷(期) 2001,(1) 所属期刊栏目 工艺.设备.材料
研究方向 页码范围 100-101,105
页数 3页 分类号 TG174.444
字数 2223字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1003-8728.2001.01.043
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 孙鉴 西安交通大学电子物理与器件研究所 39 135 6.0 9.0
2 沈思宽 西安交通大学电子物理与器件研究所 27 127 7.0 9.0
3 喻志农 西安交通大学电子物理与器件研究所 7 29 3.0 5.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (4)
节点文献
引证文献  (2)
同被引文献  (3)
二级引证文献  (2)
1980(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1991(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1993(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1996(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2001(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2010(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2011(1)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(1)
2014(2)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
脉冲多弧离子镀
类金刚石薄膜
薄膜性能
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
机械科学与技术
月刊
1003-8728
61-1114/TH
大16开
西安友谊西路127号
52-193
1981
chi
出版文献量(篇)
8073
总下载数(次)
15
总被引数(次)
69926
论文1v1指导