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摘要:
分别采用具有和不具有弯曲弧磁过滤器的两种真空阴极弧离子镀方法,在不同工艺参量下制备了类金刚石碳膜.采用Raman光谱和X射线光电子能谱(XPS), 分析了不同工艺参量下的类金刚石碳膜的键结构,通过对Raman光谱的D峰、G峰和C1s电子结合能峰位、强度的对比,详细讨论了沉积工艺参量对类金刚石碳膜结构的影响.研究发现,不同工艺下具有高强度D峰Raman光谱的类金刚石碳膜,其C1s电子结合能却分别位于284.15,285.50 eV,表明高度石墨化和高度金刚石化两种状态类金刚石碳膜,都可以形成具有高强度D峰Raman光谱曲线.
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文献信息
篇名 X射线光电子能谱辅助Raman光谱分析类金刚石碳膜的结构细节
来源期刊 物理学报 学科 物理学
关键词 类金刚石碳膜 Raman光谱 X射线光电子能谱
年,卷(期) 2001,(8) 所属期刊栏目 凝聚物质:结构、热学和力学性质
研究方向 页码范围 1549-1553
页数 6页 分类号 O4
字数 3313字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.08.028
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李刘合 北京航空航天大学机械学院 39 653 12.0 25.0
2 张彦华 北京航空航天大学机械学院 94 1487 21.0 35.0
3 夏立芳 哈尔滨工业大学材料学院 48 772 16.0 26.0
4 孙跃 哈尔滨工业大学材料学院 41 374 12.0 17.0
5 马欣新 哈尔滨工业大学材料学院 57 307 10.0 14.0
6 崔旭明 北京航空航天大学机械学院 5 98 4.0 5.0
7 张海泉 北京航空航天大学机械学院 8 193 7.0 8.0
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Raman光谱
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