灰阶编码掩模制作微光学元件

• 作者: 姚军 崔铮 张怡霄 杜惊雷 粟敬钦 郭永康 高福华
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 编码灰阶掩模 光刻 微光学元件
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 页码范围: 97-100
• 页数: 4页
• 分类号: TN201
• 字数: 1726字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2001.01.023

摘要

提出一种基于改变灰阶编码掩模的单元形状和位置的掩模设计新方法，并根据成像过程中的非线性因素，用这种方法对掩模图形进行了预畸变校正。根据部分相干光成像理论和抗蚀剂曝光显影模型，模拟计算了这种灰阶编码掩模产生的空间光强分布和光刻胶上的浮雕结构。采用电子束曝光系统制作了这种掩模，并在光刻胶上获得具有连续面形的微透镜的阵列。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭永康	四川大学物理系	87	836	16.0	21.0
2	高福华	四川大学物理系	56	392	11.0	16.0
3	杜惊雷	四川大学物理系	77	611	13.0	18.0
4	张怡霄	四川大学物理系	27	205	9.0	12.0
5	姚军	四川大学物理系	15	195	9.0	13.0
6	粟敬钦	四川大学物理系	13	153	7.0	12.0
7	崔铮		8	189	5.0	8.0