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摘要:
双栅MOSFET是一种非常有发展前途的新型器件,它具有跨导高、亚阈值特性优异、短沟道特性好等优点.但是目前自对准的双栅MOSFET的工艺制作相当困难.本文中分析了双栅MOSFET 的正、背面栅存在对准误差时,对器件的静态及动态特性的影响,并提出了一种改善这种影响的方法.
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关键词云
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文献信息
篇名 栅对准误差对双栅MOSFET性能影响的分析
来源期刊 电子器件 学科 工学
关键词 双栅MOS场效应晶体管 栅不对准
年,卷(期) 2002,(4) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 402-405
页数 4页 分类号 TN432
字数 2454字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1005-9490.2002.04.018
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李伟华 东南大学微电子中心 13 76 5.0 8.0
2 钱莉 东南大学微电子中心 2 1 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
双栅MOS场效应晶体管
栅不对准
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子器件
双月刊
1005-9490
32-1416/TN
大16开
南京市四牌楼2号
1978
chi
出版文献量(篇)
5460
总下载数(次)
21
总被引数(次)
27643
论文1v1指导