多元Ti(CN)膜的制备和性能研究

• 作者: 刘德浚 姚正军 沈星 王少刚
• 来源期刊: 东南大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 离子镀 Ti(CN) 组织结构 制备 性能
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 页码范围: 86-89
• 页数: 4页
• 分类号: TG113|TG174.4
• 字数: 1924字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-0505.2002.01.020

摘要

为研究多元Ti(CN) 膜层,用空心阴极离子镀方法,通入不同比例C2H2和N2反应气体,以研究反应气体流量变化对膜层性能的影响,筛选出C2H2与N2的最佳比例,确定镀膜的最佳工艺参数,并对最佳工艺条件下的膜层进行了硬度和膜基结合力等的测试,用X衍射仪、电镜、金相显微镜等对膜层的微观组织结构进行了分析.结果表明:镀膜工艺可行,膜层性能优异,膜基结合好,为以后多元膜层的推广使用提供了实验和理论依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王少刚	南京航空航天大学材料科学与技术学院	89	614	14.0	20.0
2	姚正军	南京航空航天大学材料科学与技术学院	108	931	17.0	25.0
3	沈星	南京航空航天大学材料科学与技术学院	52	392	12.0	17.0
4	刘德浚	南京航空航天大学材料科学与技术学院	4	58	4.0	4.0