CVD金刚石薄膜窗口试样制备及力学性能测量

• 作者: 孙方宏 晋占峰 简小刚 胡斌 陈明
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石薄膜 硅基体 化学刻蚀 鼓泡法
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: 金刚石/制品
• 页码范围: 3-5
• 页数: 3页
• 分类号: TG7
• 字数: 2948字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2002.06.001

摘要

本文以氢气和丙酮为原料,采用电子增强热丝CVD法,在硅片(100)基体上沉积一层金刚石薄膜,并采用光刻法和湿式各向异性刻蚀技术制备出金刚石薄膜自支撑窗口试样.实验结果表明,所制备的金刚石薄膜自支撑窗口刻蚀彻底,形状规则,能够很好地满足鼓泡法的实验要求,对CVD金刚石薄膜力学性能的测量具有重要意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	简小刚	上海交通大学机械动力工程学院	9	124	6.0	9.0
2	孙方宏	上海交通大学机械动力工程学院	91	969	17.0	25.0
3	陈明	上海交通大学机械动力工程学院	192	1907	22.0	35.0
4	胡斌	上海交通大学机械动力工程学院	40	259	9.0	14.0
5	晋占峰	上海交通大学机械动力工程学院	2	11	2.0	2.0