电子材料分析中的能谱干扰峰

• 作者: 施明哲 董本霞
• 来源期刊: 电子产品可靠性与环境试验
• 关键词: 能谱仪 定性分析 特征X射线 和峰 逃逸峰 重叠峰
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 所属期刊栏目: 可靠性物理与失效分析技术
• 页码范围: 46-49
• 页数: 4页
• 分类号: TH842|O657.62
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-5468.2002.04.014

摘要

主要阐述了在电子元器件分析中用能谱仪作定性分析时常见的一些干扰峰和容易混淆及误判的一些谱峰.主要有和峰、逃逸峰以及一些在元器件材料分析中常遇到的元素特征峰之间的交错重叠的识别和判定方法,并把这些容易误判的谱线整理列成3种表格,以供参考,这些数据基本覆盖了在X射线能谱仪中可能出现的所有相关的谱峰.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	施明哲		7	22	2.0	4.0
2	董本霞		1	7	1.0	1.0