磁控溅射B4C薄膜的制备与力学性能

• 作者: 唐建毅 李戈扬 田家万 韩增虎
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: B4C薄膜 微结构 力学性能 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 45-48
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|O484.5
• 字数: 2367字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2002.01.011

摘要

通过磁控溅射方法在不同基片温度下制备了B4C薄膜,利用傅立叶红外光谱、X射线衍射、透射电子显微镜表征了薄膜的微结构,并采用纳牛力学探针测量了薄膜的力学性能.结果表明,室温下制备的B4C薄膜具有很高的硬度(42.5 GPa)和杨氏模量(300 GPa),薄膜呈现非晶或纳米晶特征.随基片温度的提高,薄膜略有晶化,硬度与杨氏模量相应增加到50.4 GPa和420 GPa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
2	韩增虎	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	14	167	7.0	12.0
3	田家万	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	15	170	7.0	12.0
4	唐建毅	上海交通大学国家教育部高温材料及高温重点实验室	2	4	1.0	2.0