Pt薄膜热敏电阻工艺研究

• 作者: 刘志刚 张之圣 温宇峰 祖光裕 胡明
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 铂薄膜热敏电阻 磁控溅射 基片
• 年，卷（期）: 2002,（9）
• 所属期刊栏目: 研究试制
• 页码范围: 9-10
• 页数: 2页
• 分类号: TN37
• 字数: 1951字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2002.09.004

摘要

本项研究目的是制作微型高精度铂薄膜热敏电阻器与集成电路配合,用于工业和科研中温度的精确测量.用高纯铂板作靶材,在玻璃基板上采用磁控溅射方法,制备成Pt薄膜热敏电阻,并在两端制作纯金电极.经测试表明,该Pt薄膜热敏电阻具备良好的线性度和灵敏度,电阻温度系数达到(或接近)3 850 ×10-6℃-1.本工艺条件稳定,适合批量生产.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡明	天津大学电子信息工程学院	139	1336	19.0	28.0
2	刘志刚	天津大学电子信息工程学院	38	320	9.0	16.0
3	张之圣	天津大学电子信息工程学院	57	580	15.0	21.0
4	祖光裕	天津大学电子信息工程学院	5	31	2.0	5.0
5	温宇峰	天津大学电子信息工程学院	3	52	3.0	3.0