金刚石薄膜在氧化铝陶瓷上低压成核

• 作者: 夏义本 居建华 张伟丽 方志军 杨莹 王志明 王林军 范轶敏
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石薄膜 MPCVD 氧化铝陶瓷 系统压强 成核
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 765-770
• 页数: 6页
• 分类号: TN304
• 字数: 2694字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2002.04.020

摘要

在微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)系统中,用低压成核方法,在氧化铝陶瓷基片上获得了高成核密度的金刚石薄膜.实验表明,金刚石成核密度随系统压强减小而提高.在此基础上,提出一种MPCVD系统中金刚石成核的动力学模型,并指出对应于最高成核密度有一临界压强存在.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	夏义本	上海大学材料科学与工程学院	111	725	13.0	19.0
2	王林军	上海大学材料科学与工程学院	109	441	11.0	14.0
3	张伟丽	上海大学材料科学与工程学院	18	104	7.0	9.0
4	居建华	上海大学材料科学与工程学院	28	114	7.0	9.0
5	王志明	上海大学材料科学与工程学院	55	169	7.0	11.0
6	方志军	上海大学材料科学与工程学院	14	97	6.0	9.0
7	杨莹	上海大学材料科学与工程学院	12	58	5.0	7.0
8	范轶敏	上海大学材料科学与工程学院	5	25	2.0	5.0